年产1000吨三氟化氮项⽬（特⽓⾏业纯度99.996%)

三氟化氮（Nitrógeno Trifluoruro），化学式NF3，是⼀种强氧化剂。作为⼀种重要的⼯业特种⽓体，具有⼴泛的应⽤领域。
在微电⼦⼯业中，三氟化氮是⼀种优良的等离⼦蚀刻⽓体，在半导体芯⽚、平板显⽰器、光纤、光伏电池等制造领域，三氟化氮主要⽤作等离⼦蚀刻⽓体和反应腔清洗剂。它还可以⽤于⾼能化学激光器，通过与氢反应在瞬间放出⼤量热来实现其应⽤。三氟化氮还可⽤作⾼能燃料，并且在⽕箭发射中作为氧化剂和推进剂使⽤。

El trifluoruro de nitrógeno, fórmula química NF3, es un agente oxidante fuerte. Como importante gas industrial especial, tiene una amplia gama de aplicaciones.
En la industria microelectrónica, el trifluoruro de nitrógeno es un excelente gas de grabado por plasma; En los chips semiconductores, pantallas planas, fibras ópticas, células fotovoltaicas y otros campos de fabricación, el trifluoruro de nitrógeno se utiliza principalmente como gas de grabado de plasma y agente de limpieza de las cavidades de reacción.
También se puede utilizar en láseres químicos de alta energía para lograr su aplicación reaccionando con el hidrógeno para emitir una gran cantidad de calor en un instante. El trifluoruro de nitrógeno también se utiliza como combustible de alta energía y como oxidante y propulsor en el lanzamiento de cohetes.